芯片制造离不开光刻机，光刻机也是芯片制造的核心设备之一。在此之前，中国没有制造光刻机的能力。长期以来，中国的芯片产业受制于人。光刻机只能依靠从荷兰ASML进口的EVU光刻机进行生产。它经常会遇到各种不公平的限制，例如在国外的卡脖子和禁止销售。

国内大多数芯片公司遵循集成电路芯片设计路线。在高端芯片自主生产制造领域，几乎是 “一片空白”。如今经过7年的努力，“超分辨率光刻设备研制” 已通过验收。中国科学院光电技术研究所成功制造了世界上第一台分辨率最高的紫外超分辨率光刻设备，分辨率高达22纳米，可10纳米以下的芯片。

在恒压输出模式下，MP1655GG-Z升降压芯片厂家采用了多模式工作方式，即调幅控制（AM）和调频控制（FM）相结合，提高了系统的效率和可靠性。在恒流输出模式下，MP1655GG-Z升降压芯片厂家采用调频控制方式，同时集成了线电压和负载电压的恒流补偿。无噪音工作，同时确保出色的动态性能。通过集成线损补偿功能，可以获得高性能的恒压输出性能。